高溫馬弗爐適用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做粉末焙燒、陶瓷燒結(jié)、高溫實(shí)驗(yàn)、化學(xué)分析、材料處理、陶瓷、冶金、電子、玻璃、塑料、鋼材、貴金屬、寶石、化工、機(jī)械、耐火材料、新材料開發(fā)、特種材料、建材質(zhì)量檢測(cè)之用?？筛鶕?jù)用戶需要設(shè)計(jì)制造特殊規(guī)格產(chǎn)品。 

高溫馬弗爐怎么確定抽真空的總氣體量 

首先、真空系統(tǒng)工藝過(guò)程中產(chǎn)生的氣體。它包括工藝過(guò)程中材料放出的氣體以及工藝需要而引入的氣體，同時(shí)真空系統(tǒng)中液體或固體蒸發(fā)的氣體也包含其中。不同的工藝過(guò)程以及不同的被處理材料，這部分氣體的量的計(jì)算都是不同的。  

第二、真空系統(tǒng)內(nèi)原本存在的大氣氣體。真空系統(tǒng)中真空容器室、真空管路等，這些原本就含有一定量的大氣氣體成分，在抽氣初期，它們是真空系統(tǒng)抽氣的主要?dú)怏w負(fù)荷，也是被系統(tǒng)早抽走的。  

第三、真空系統(tǒng)中的泄漏氣體。泄漏氣體包括大氣通過(guò)真空密封的連接處以及各種漏隙通道泄漏進(jìn)入真空系統(tǒng)內(nèi)部的氣體。對(duì)于確定的真空系統(tǒng)來(lái)說(shuō)，泄漏的氣體量是一個(gè)常數(shù)。不同的真空系統(tǒng)應(yīng)用、不同的極限壓力，對(duì)泄漏氣體的量也有嚴(yán)格的控制。  

第四、真空系統(tǒng)中各種材料表面解吸釋放出來(lái)的氣體。常壓下，真空系統(tǒng)中的材料表面會(huì)吸附、溶解部分氣體。在負(fù)壓狀態(tài)下，這部分氣體會(huì)被重新釋放出來(lái)。它的放氣流量與材料性能、處理工藝以及材料表面狀態(tài)有關(guān)。  

第五、真空系統(tǒng)外大氣通過(guò)器壁材料滲透到系統(tǒng)內(nèi)的氣體。氣體在固體中也會(huì)發(fā)生溶解、滲透。因此大氣通過(guò)容器壁結(jié)構(gòu)材料會(huì)向真空系統(tǒng)內(nèi)滲透部分氣體。這種滲透在一般的金屬系統(tǒng)下可以不考慮，但部分應(yīng)用在玻璃真空系統(tǒng)或薄壁金屬系統(tǒng)會(huì)需要考慮滲透氣體帶來(lái)的影響。